Főszerepben a hőtágulás

1. Előzmények

Kutatói pályafutásom kezdetén, vagyis az 1960-as évek végén, a Vasipari Kutató Intézetben első feladatom egy Carl Zeiss Jena gyártmányú elektronoptikai berendezés üzembe helyezése és üzemeltetése, illetve a megrendelt és saját kezdeményezésű vizsgálatok végrehajtása volt. A berendezés az építőszekrény elvén épült fel, sajnálatos módon azonban csak két fokozata került piacra: egy hagyományos, 65kV gyorsító-feszültségű elektronmikroszkóp, és egy, az akkori időkben újdonságnak számító emissziós elektronmikroszkóp. Mivel ez utóbbi vizsgálati lehetőségei illeszkedtek legjobban a fénymikroszkópos technikához, kezdettől fogva ennek a berendezésnek a működtetésére fordítottam a figyelmemet.

Az emissziós mikroszkópban vezető anyagú tömbi minták felületének leképzésére volt lehetőség a fénymikroszkóp felbontóképességével közel megegyező vagy annál kissé jobb felbontással. A mikroszkópban polírozott vagy maratott, esetleg kissé tagolt felületű minták voltak vizsgálhatók. Az emissziós mikroszkópban a leképzéshez szükséges elektronokat háromféle gerjesztéssel lehetett a próbatestből kiváltani. A szoba- vagy annál kissé magasabb hőmérsékletű leképzést a próbatest felületének ionokkal vagy elektronokkal való bombázása tette lehetővé. A harmadik lehetőséget a termikus gerjesztés jelentette, amikor is a mintát egy viszonylag nagy teljesítményű elektronágyú segítségével olyan hőmérsékletre lehetett hevíteni, amelyen már a 20-30kV nagyságú gyorsító feszültség hatására a leképzéshez elegendő nagyságú elektronáram adódott. A berendezés működési elve a ’60-as, ’70-es évek szakirodalmában megtalálható, kiegészítésként itt csak azt említem meg, hogy a ’70-es évek végén egy nyugat-európai cég olyan emissziós elektronmikroszkópot fejlesztett ki, amelyben a mintából ultraibolya fény gerjesztette a minta elektron-kibocsátását.

Olvass tovább